CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發(fā)誘導(dǎo)成膜"原理研發(fā)生產(chǎn)的*薄膜制備設(shè)備，通過(guò)真空環(huán)境加速溶劑蒸發(fā)，驅(qū)動(dòng)溶質(zhì)（如有機(jī)小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設(shè)備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優(yōu)勢(shì)，廣泛應(yīng)用于鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領(lǐng)域。

核心特點(diǎn)

u 智能集成控制：7英寸彩色觸控屏，支持中英文界面，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)與調(diào)節(jié)工藝參數(shù)，可存儲(chǔ)20組配方，工藝全程可追溯。

u 雙模式靈活操作：集成PLC控制系統(tǒng)，支持手動(dòng)/自動(dòng)一鍵切換，適應(yīng)多樣研發(fā)與量產(chǎn)場(chǎng)景。

u 高質(zhì)量成膜性能：真空環(huán)境促進(jìn)快速溶劑揮發(fā)與溶質(zhì)有序排列，形成致密均勻、低缺陷的高質(zhì)量薄膜。

u 氣體與環(huán)境控制：內(nèi)置質(zhì)量流量計(jì)（0–500 sccm），支持惰性氣體保護(hù)與HEPA過(guò)濾，有效防污，滿足高標(biāo)準(zhǔn)潔凈工藝需求。

u 廣泛兼容與高擴(kuò)展性：支持多種基底（硅片/玻璃/ITO等）和功能層（電子/空穴傳輸層等）沉積，優(yōu)化器件性能與穩(wěn)定性。可選集成加熱臺(tái)（RT–200°C）。

u 工藝均勻性：調(diào)控溫度、真空度與揮發(fā)速率，實(shí)現(xiàn)大面積均勻成膜，解決多層器件互溶問(wèn)題。

u 穩(wěn)定可靠運(yùn)行：設(shè)備結(jié)構(gòu)穩(wěn)固，可長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)工作，保障工藝一致性與重復(fù)性。